印刷廢氣處理 車間凈化設(shè)備 非標(biāo)定制

治理印刷廠廢氣主要使用性炭吸附設(shè)備、離子凈化設(shè)備、燃燒設(shè)備、UV光解凈化設(shè)備等設(shè)備。

（1）活性炭吸附設(shè)備

活性炭吸附設(shè)備利用吸附劑（活性碳、硅膠、分子篩等）來處理有機(jī)廢氣，主要用于風(fēng)量大、濃度低、無顆粒物、無粘性物、常溫的廢氣凈化?；钚蕴績艋矢?，應(yīng)用領(lǐng)域廣，使用便捷，成本低。吸附滿的活性炭需要更換。

（2）等離子凈化設(shè)備

等離子凈化設(shè)備利用等離子體+高壓放電裝置在放電時(shí)產(chǎn)生高能電子和離子產(chǎn)生反應(yīng)，將廢氣轉(zhuǎn)化成二氧化碳和水等物質(zhì)，達(dá)到凈化廢氣效果。設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域廣，凈化效率高，占地面積小，但對于含水、含塵、廢氣濃度高的封閉空間存在爆炸安全隱患，所以不能處理易燃易爆的氣體。

（3）燃燒設(shè)備

廢氣在高溫條件下進(jìn)行燃燒，分解為二氧化碳和水。燃燒法適用于各種有機(jī)廢氣，燃燒設(shè)備分為直接燃燒設(shè)備、熱力燃燒設(shè)備(RTO)和催化燃燒設(shè)備（RCO）。

燃燒設(shè)備凈化效率高，但成本高。

（4）UV光癢凈化設(shè)備

UV光癢凈化設(shè)備利用UV紫外線分解空氣中的氧分子產(chǎn)生臭氧，臭氧對有機(jī)廢氣、惡臭氣體進(jìn)行光解氧化轉(zhuǎn)化成低分子化合物、二氧化碳和水。

UV光癢凈化設(shè)備處理效率高，凈化率達(dá)到95%以上。

印刷廢氣處理 車間凈化設(shè)備 非標(biāo)定制

1印刷現(xiàn)場未進(jìn)行氣流組織設(shè)計(jì)

大多數(shù)印刷現(xiàn)場沒有進(jìn)行功能區(qū)分，生產(chǎn)線布局不合理，排氣和現(xiàn)場溫濕度設(shè)計(jì)比較自由，不僅能耗高，印刷現(xiàn)場內(nèi)的廢氣也沒有組織。

1.2設(shè)計(jì)風(fēng)量過大

大多數(shù)凹版印刷、復(fù)合或涂布設(shè)備的排氣量未經(jīng)設(shè)計(jì)計(jì)算，大大超過了印刷技術(shù)的需求，不僅增加了鼓風(fēng)機(jī)的能源消耗量，還進(jìn)一步降低了排氣濃度，但由于排氣處理設(shè)施以排氣量設(shè)計(jì)，增加的多馀風(fēng)量等于增加了排氣處理設(shè)施的投入成本和運(yùn)行成本。另外，一些企業(yè)的印刷機(jī)組共享排氣扇，在一些機(jī)組沒有生產(chǎn)的情況下，依然以滿負(fù)荷的風(fēng)扇功率排氣，所有的印刷機(jī)的烤箱都處于連通狀態(tài)，處理風(fēng)量增加。

1.3廢氣設(shè)施運(yùn)行不正常

為了降低成本，一些印刷企業(yè)擅自閑置管理設(shè)施，故意使管理設(shè)施處于異常運(yùn)行狀態(tài)。例如，降低低溫等離子體運(yùn)行電壓，長期不更換活性炭，取出干燥活性炭后回填，不及時(shí)更換損壞的紫外線燈等違法行為。

2.印刷廢氣管理研究現(xiàn)狀

2.1打印材料

這方面的研究集中在不同材料的揮發(fā)性有機(jī)化合物散發(fā)特性和傳質(zhì)擴(kuò)散模型上，研究印刷材料與油墨、清潔劑的匹配性，不同的印刷方式使用油墨的揮發(fā)性有機(jī)化合物含量，開發(fā)環(huán)保的印刷材料、油墨和清潔劑[1]。例如，有學(xué)者認(rèn)為擴(kuò)散系數(shù)d與VOCs分子量負(fù)有關(guān)，分離常數(shù)Ke與VOCs蒸汽壓正有關(guān)的學(xué)者通過測試對比發(fā)現(xiàn)凹版墨(68%~80%)含量最高，UV膠版墨(7%~12%)VOCs含量。溶劑型柔性印刷油墨(50%~55%)、熱固型輪轉(zhuǎn)印刷油墨(31%~39%)、單張紙印刷油墨(11%~19%)VOCs含量依次下降。

2.2廢氣收集方面

此類文獻(xiàn)從印刷廠氣流組織、溫濕度控制、風(fēng)速控制、涂布、印刷設(shè)備密閉改造方面研究提高有機(jī)廢氣收集效率。具體包括不同送風(fēng)方式的功效、內(nèi)擾熱源的影響、氣流分布特性和能耗的關(guān)系、溫濕度的獨(dú)立控制等。有學(xué)者研究了印刷生產(chǎn)有機(jī)廢氣擴(kuò)散機(jī)理，指出印刷品在干燥前、干燥過程中、干燥完成后需要控制的因素，為減少有機(jī)廢氣擴(kuò)散和綜合管理印刷有機(jī)廢氣污染提供了理論參考。